CVD工艺气体传输控制柜
薄膜沉积、光刻、刻蚀三大工艺是最关jian的环节，CVD工艺气体传输控制柜是化学气相沉积（CVD-chemical vapor deposition）工艺中不行或缺的一部门，主要用于准确控制特种气体的传输和供应，确保CVD历程中的气体纯度、稳固性和清静性。
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产物特点
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产物参数
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质量治理
产物特点
高精度流量控制
通过准确的阀门系统和流量控制器，实现对特种气体的准确传输和控制，确保气体流量、压力等参数的稳固性
清静稳固性
气柜配有门互锁开关、压力清静开关、单向阀、火焰报警器等清静部件保证气柜清静。同时，装备接纳防爆、防腐等设计，提高了装备的清静性能
高气密性
产物接纳IGS和VCR接口形式实现半导体装备的高气密性
高清洁度
接纳高精渡过滤器能够去除3nm以上的颗粒杂质
清静认证
通过SEMI S6测试清静认证
产物参数
| 外漏测试漏率 | ≤1.0X10-11/mbar·L/s |
| 内漏测试漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s |
| 保压测试50psi | 氮气保压测试, 保压12h,压降 ≤1% |
| 氦爆测试漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s;（可。 |
| 颗粒测试 | (5 particle @ >0.1um) |
| 水氧测试 | 水含量≤10PPB，氧含量≤10PPB；（可。 |
质量治理
腾博手机质量治理承袭"好的质量是设计、制造出来的"为原则,关注客户端到端的质量服务,从研发、设计、历程全生命周期质量治理关注各环节中入口质量、历程质量、出口质量,襶uanＶふ逯柿靠煽,最终构建成以以预防为主的质量文化,助力客户产物更具竞争力。
