EPI工艺气体传输控制柜
随着半导体手艺的一直生长,硅外延工艺也在一直优化和创新。未来,硅外延工艺可能会朝着更高的纯度、更大的晶体尺寸、更低的缺陷密度等偏向生长,以知足高性能半导体器件的制造需求。硅外延作为一种关jian的半导体制造工艺,对于提高半导体器件的性能和可靠性具有主要意义。硅外延工艺气体传输控制柜是半导体制造中不行或缺的装备之一,它通过准确控制气体的流量、压力和纯度,为外延生长提供稳固的气体情形,从而确保外延层的高质量、匀称性。
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产物特点
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产物参数
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质量治理
产物特点
高精度流量控制
通过准确的阀门系统、流量控制器、压力控制器,实现对特种气体的准确传输和控制,确保气体流量、压力等参数的稳固性
清静稳固性
气柜配有门互锁开关、压力清静开关、单向阀、火焰报警器等清静部件保证气柜清静。同时,装备接纳防爆、防腐等设计,提高了装备的清静性能
高气密性
产物接纳IGS和VCR接口形式实现半导体装备的高气密性
高清洁度
接纳高精渡过滤器能够去除3nm以上的颗粒杂质

清静认证
通过SEMI S6测试清静认证
产物参数
外漏测试漏率 | ≤1.0X10-11/mbar·L/s |
内漏测试漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s |
保压测试50psi | 氮气保压测试, 保压12h,压降 ≤1% |
氦爆测试漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s;(可。 |
颗粒测试 | (5 particle @ >0.1um) |
水氧测试 | 水含量≤10PPB,氧含量≤10PPB;(可选) |
质量治理
腾博手机质量治理承袭"好的质量是设计、制造出来的"为原则,关注客户端到端的质量服务,从研发、设计、历程全生命周期质量治理关注各环节中入口质量、历程质量、出口质量,襶uanVふ逯柿靠煽,最终构建成以以预防为主的质量文化,助力客户产物更具竞争力。
